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等离子增强化学气相沉积水平镀膜系统2019-05-16 15:51:14采用等离子的方法使反应气体活性增加，提升反应速度，从而实现化学反应和分子沉积成膜。可以制备碳化硅/氮化硅/氮碳化硅/二氧化硅/非晶硅/氧化铝等多种薄膜，可在半导体和光伏应用。
低压水平扩散氧化系统
2019-05-16 15:50:22
在低压氛围下，实现化学反应和分子沉积成膜。成膜后可以通过高温加热扩散，从而实现硅片表面掺杂的功能。可以制备氧化硅/硼硅玻璃/磷硅玻璃等薄膜，也可以实现硅片表面磷掺杂，硼掺杂等。
- 公司规模：100 - 499人
- 公司性质：民营企业
- 所属行业：IT行业-计算机、互联网、通讯、电子、仪器仪表等
- 所在地区：广东-深圳市-坪山区
工作地址
- 地址：深圳市坪山区坑梓吉康路1号 (邮编：518000)
